Titanium nitride films were grown by unbalanced magnetron sputtering at different N2 and Ar partial pressure ratios on Ti6Al4V alloy substrate.
英
美
-
-
采用非平衡磁控溅射技术,在钛合金(Ti6Al4V)表面沉积氮化钛薄膜。 通过改变氮气和氩气分压比(PN/PAr)和基体偏压,制备出不同结构、性能的氮化钛薄膜。
以上内容独家创作,受著作权保护,侵权必究
海词词典,十七年品牌