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Theoretical research and computer simulation show that the new IIL can obtain higher resolution and better resist patterns as well as decrease position error of patterns out of focusing.
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释义
理论和计算模拟表明,该方法可以提高图形对比度和分辨力,并减小因调焦误差引起的图形横向位移误差,有利于改善抗蚀剂图形质量。
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