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The simulation method for designing an aperture in an exposure apparatus including a light source, an optical lens group, a photomask, an aperture, receives the layout information of the photomask.
英
美
释义
用于设计包括光源、光学透镜组、光掩模、孔径的曝光装置中的孔径的模拟方法接收光掩模的布局信息。
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