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The ruling practice using the control system shows that the photoelectric control system meets the sub-micrometer graduation requirement of high-density gratings.
英
美
释义
采用该控制系统的光栅刻划实践表明,所设计的光电式刻划控制系统已完全达到了高密度衍射光栅的亚微米栅距分度要求。
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