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The ion beam etching process in fabricating refractiue microlens is simulated by setting up the etching model of Argonion beam to resist microlens.
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释义
建立氩离子束对光刻胶微透镜的刻蚀模型,模拟折射微透镜制备中的离子束刻蚀工艺过程。
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