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So, it could be suggested that the thermal treatment is an effective way to minimize residual ions, and reduce haze issues when the photomask using in 193nm stepper or scanner.
英
美
释义
通过在传统光掩模清洗后引入加热处理和热去离子水的冲洗,可以有效减少光掩模表面离子残留,从而防止和减少光掩模在193nm波长光刻应用中生成雾状缺陷(haze)。
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