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Line defects can be created holographically in the photonic crystals by an additional exposure with proper intensity and then develop the recording medium to high contrast.
英
美
释义
在分析有缺陷的光子晶体时,我们利用重覆曝光和把记录介质冲洗到高对比的方法,并适当的控制雷射的强度,可制造出有线缺陷的全像光子晶体。
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